【新聞】立法院三讀通過專利法修正案擴大設計專利權保護

Dec 09, 2011
立法院於11月29日三讀通過專利法修正草案，我國專利法修正案在立法院歷經二年討論於11月29日三讀通過，預計於明年11月上路。本次專利法修正案修正重點，除了擴大設計專利保護範圍、智慧型手機使用界面、APP應用程式圖像等均可申請專利，並且增訂醫藥品研究試驗免責、延長等相關規定有助文創、生技、綠能、精緻農業、觀光旅遊、醫療照護等六大新興產業發展。

本次修法將新式樣專利，更名為「設計專利」（Design），並開放部分設計、衍生設計、成組設計、電腦圖像（Icons），以及使用者圖形化使用者介面（GUI）等，均可申請專利。今後例如：智慧型手機的使用界面、開機畫面，及APP應用程式圖像等，未來都可申請設計專利，強化對國內企業與文創產業的設計保護。

另外，醫藥品或農藥品的專利期限延長規定，修法後放寬，藥品專利經核可後，若在衛生單位審核期間而無法行使專利，可要求彌補專利行使的期限。可彌補期間原本有二到五年的限制，修法後將二年的限制取消。修法並將許多程序限制放寬，如刪除申請人主動申請修正的時間限制，及放寬發明專利申請案可在初審核准後30日內申請分割。專利權人在聲請損害賠償時，必須加強舉證責任等。

再者，本次專利法修正條文特別將「強制授權」門檻拉高，以便與國際接軌，智慧財產局指出，我國原先在強制授權部分，門檻較諸世界各國為寬鬆。專利授權雙方若協商不成，往往授權申請人便主張強制授權，曾遭國際詬病。因此修法後在強制授權條件中增加限制，授權申請人必須是為了公益、非營利用途，或者已將該專利改良，始可主張強制授權。另外，國內中小企業常發生未繳納專利年費，導致權利喪失等問題，修法增訂「復權機制」，可於繳費期限屆滿後半年內，依規定補繳，可申請回復相關權利。
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